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一种卤素自掺杂卤氧化铋半导体纳米发光材料 发明申请

2022-07-07 4680 1356K 0

专利信息

申请日期 2024-11-30 申请号 CN201710028499.0
公开(公告)号 CN106753366A 公开(公告)日 2017-05-31
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 昆明理工大学
简介 本发明公开了一种卤素自掺杂卤氧化铋半导体纳米发光材料,该材料利用卤素离子自掺杂增强稀土离子的发光效率,其化学式为Bi1‑xRexOMy,其中x=0.0025~0.1,y=1.2~4,Re=Tb、Ce、Nd、Dy、Sm、Pr、Lu、Eu、Tm、Yb、Gd、Ho、Er、La中的一种或者任意几种,M=Cl、Br、I中的一种;该材料通过卤素离子在卤氧化铋纳米半导体中的自掺杂行为,提高了其二维原子层的层间内电场,增强稀土离子的发光效率;本发明材料的制备方法成本低廉、工艺简单、条件温和、能耗低,不需要复杂设备,具有工业和市场应用推广前景。


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